Основной контент книги Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа

Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа

Объем 19 страниц

2007 год

Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа

авторы

0,0

399 ₽

132 ₽

Покупайте книги и получайте бонусы в Литрес, Читай-городе и Буквоеде.

Участвовать в бонусной программе

Подарите скидку 10%

Посоветуйте эту книгу и получите 13,21 ₽ с покупки её другом.

Подробнее

О книге

В методических указаниях рассматриваются принципы расчета режимов ионной имплантации при формировании структур n+–p–p+(p+–n–n+)-типа и профилей распределения имплантированной примеси. Излагается методика расчета в программе Math Cad 2001.

Жанры и теги

Материаловедение

Практикумы

Войдите, чтобы оценить книгу и оставить отзыв

Книга Владимира Астахова, Андрея Полисана «Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа» — читать онлайн на сайте. Оставляйте комментарии и отзывы, голосуйте за понравившиеся.

Возрастное ограничение:

Дата выхода на Литрес:

28 марта 2018

Дата написания:

2007

Объем:

19 стр.

Общий размер:

298 КБ

Общее кол-во страниц:

Правообладатель:

МИСиС