Основной контент книги Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
Текст PDF
Объем 357 страниц
Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
автор
annie baudrant
17 121,65 ₽
Начислим +514
Покупайте книги и получайте бонусы в Литрес, Читай-городе и Буквоеде.
Участвовать в бонусной программеО книге
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
Войдите, чтобы оценить книгу и оставить отзыв
Книга Annie Baudrant «Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment» — читать онлайн на сайте. Оставляйте комментарии и отзывы, голосуйте за понравившиеся.
Возрастное ограничение:
0+Дата выхода на Литрес:
10 апреля 2018Объем:
357 стр. ISBN:
9781118601112Общий размер:
14 МБОбщее кол-во страниц:
357Правообладатель:
John Wiley & Sons Limited